high k metal gate製程
...製程技術以採用高介電層/金屬閘極(High-kMetalGate,HKMG)的後閘極(Gate-last)技術為主。相較於前閘極(Gate-first)技術,後閘極技術具備較低的漏電流以及能 ...,2007年12月24日—而其中已導入的high-k/metalgate材料製程,可以控制金屬氧化物半導體場效電...
金氧半元件金屬閘極和高介電係數介電層之製程整合研究
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由張新君著作·2006—金氧半元件金屬閘極和高介電係數介電層之製程整合研究.IntegrationofMetalGateandHigh-kGateDielectricforAdvancedMOSDevices.張新君(Hsin-ChunChang).
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